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磁控溅射镀膜工艺在业界生产及研发领域有非常广泛的应用。纳峰科技以多年的真空设备设计及制造经验为依托,配备多样化的专业镀膜工艺,可为广大客户提供更人性化、更优质的磁控溅射镀膜机台。此外,由于采用特殊设计的样品转台,纳峰的磁控溅射系统可实现多镀膜源、多材料共沉积,基片可加偏压及高温达1000°C,并可添加真空锁机构。