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<>设备特点

配备分离的工艺真空室及装卸载真空室,提高生产效率,保证膜层质量

配备FCVA镀膜源,磁控溅射源及离子束清洗源

样品支架可多角度旋转及自转


  系统采用单个或一对FCVA镀膜源配置,包括一个工艺真空室、一个装卸载真空室、一架FCVA碳源、一架FCVA金属源 (可选)或一个磁控溅射源(可选)、一个离子束清洗源,可长时间保证工艺真空室高真空要求,从而提高生产效率及保证膜层质量。样品支架采用特殊设计,立式结构,可倾斜、公转、自旋转、加偏压。该系统还可设计为具有多源同时沉积等特殊工艺要求的机台,可在高真空环境下连续镀膜,从而提供品质优异、均匀性好、重复性高的镀膜产品,是精密模具、精密部件表面镀膜、生产超薄高性能膜层的最佳选择。