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<>设备特点

所有真空室为模块化设计,数目可根据具体应用增减

每个工艺室装备1对FCVA源及1对平面溅射靶或圆柱靶

溅射靶可由直流、中频或射频电源驱动

基体可预加热,并配备有离子束预清洗功能 


数字闭环PID真空控制系统,配合精密阀门,准确稳定工艺真空到设定值

产品装载支架高达 500mm, 直径900mm

特殊设计的真空锁阀门,节拍高达5分钟/炉

连续镀膜时间长达3天3夜